光刻胶SU-8是一种常用的负性光刻胶，通常由环氧树脂和光敏剂组成，匀胶机企业，它具有许多优点，使其在制备微结构和器件方面成为理想的选择：高分辨率：SU-8光刻胶具有出色的分辨率，可以制备细致的微结构，适合制作小尺寸线条和微细图案。粘附性强：SU-8光刻胶在许多基片表面具有良好的粘附性，江苏匀胶机，可以在不同材料上制备微结构。厚度可调：SU-8光刻胶可以通过多次涂覆和光刻来控制厚度，适用于制备不同厚度的微结构。化学稳定性：SU-8光刻胶具有较高的化学稳定性，可以耐受许多溶剂和化学物质，适用于各种应用环境。热稳定性：SU-8光刻胶在高温下具有较好的稳定性，匀胶机设计，适用于需要高温处理的制备过程。多层光刻：SU-8光刻胶可用于多层光刻制备，能够实现更复杂的微结构和器件。应用广泛：SU-8光刻胶在微流体器件、生物芯片、MEMS、光学器件等多个领域中得到广泛应用。顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业。提供丰富多样的微流控芯片加工设备，匀胶机公司，涵盖SU8模具加工、PDMS芯片加工和玻璃芯片加工。可以帮助客户在自己的实验室内进行微流控芯片的快速制作，从而提高实验效率和灵活性。装箱清单1、桌面微型紫外光刻机主机1台2、匀胶机1台3、热板2台4、数显测厚规（千分款）1只5、显微镜1台（选配）6、耗材：硅片、掩膜版、SU8光刻胶（需额外购买）顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业，我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案。桌面光刻机曝光光源：紫外LED光源波长：365nm;曝光面积：4英寸、6英寸可选；曝光方式：单面接触式定时曝光；曝光分辨率：2um；曝光强度：20~200mW/cm2可调；曝光不均匀性：≤5%；光源平行性：≤2°；光源寿命：≥20000h；电源输入：AC220V±10V，50HZ功率：250W重量：25kg外形尺寸：382（长）*371（宽）*435（高）工作环境：温度0℃-40℃，相对湿度＜80%匀胶机设计-顶旭微控技术有限公司-江苏匀胶机由顶旭（苏州）微控技术有限公司提供。“微流控芯片定制，微流控芯片加工设备，微流控仪器，表面修饰”选择顶旭（苏州）微控技术有限公司，公司位于：苏州工业园区斜塘街道东富路32号雅景综合产业园A栋A217室，多年来，顶旭坚持为客户提供好的服务，联系人：周经理。欢迎广大新老客户来电，来函，亲临指导，洽谈业务。顶旭期待成为您的长期合作伙伴！)