1、启动曝光：确认参数设定无误后，点击启动按钮，设备将开始进行曝光。2、监控曝光过程：在曝光过程中，您可以通过设备界面监控曝光进度，确保一切顺利进行。3、曝光完成：曝光结束后，设备会发出提示，取出硅片和光刻板。顶旭微控顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业，我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等quan面的微流控解决方案。公司团队拥有丰富的经验和技术积累，持续将zhuan业知识与创新思维相结合，为客户提供gao品质的解决方案。我们将始终坚持以客户为中心，不断挑战自我，不断追求zhuo越，上海桌面光刻机，通过zhuan业、创新和合作，为客户创造更大的价值，共同开chuang微流控领域的美好未来。SU8模具制备流程一、备片从化学品存放区取出清洁的硅片（确保硅片表面无尘）。匀胶1）打开匀胶机，桌面光刻机公司，将硅片放置在匀胶机托盘上，打开真空开关，确保硅片固定在托盘上不动；将SU8光刻胶滴在硅片中间，根据光刻胶的厚度和制备要求设置匀胶机转速和时间。（举例说明：目标胶厚度50um，光刻胶型号：SU8-2075，1段500转8s，2段1800转30s）前烘1）将涂布好SU8光刻胶的硅片放置在热板上，进行预热烘烤，去除光刻胶中的挥发性有ji溶剂，时间和温度根据光刻胶厚度进行调整。（举例说明：目标胶厚度50um，设置温度65℃，烘烤15min，然后温度95度，烘烤15分钟）曝光1）将预热后的硅片放置在桌面光刻机托盘上。2）使用相应的掩模（掩膜）放置在硅片上进行曝光，曝光时间和强度根据SU-8光刻胶的类型和厚度进行调整。（举例说明：目标胶厚度50um，设置曝光能量25mw/cm2，时间12s）后烘将曝光后的硅片放置在热板上，进行后曝光烘烤，以确保光刻胶的交联反应完成。（举例说明：目标胶厚度50um，设置温度65℃，烘烤7min，然后温度95℃，烘烤3min）六、显影将硅片放入显影剂中，使未曝光部分的光刻胶溶解，形成模具的图案。（显影时间根据光刻胶厚度和显影剂浓度进行调整，桌面光刻机设计，此处显影时间20min）清洗将显影后的硅片用异bing醇溶剂进行清洗，去除多余的光刻胶。检查使用显微镜检查制备的SU-8模具，测试观察制备的微结构尺寸，确认图案的清晰度和质量。上海桌面光刻机-顶旭微控技术有限公司-桌面光刻机设计由顶旭（苏州）微控技术有限公司提供。顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家从事“微流控芯片定制，微流控芯片加工设备，微流控仪器，表面修饰”的公司。自成立以来，我们坚持以“诚信为本，稳健经营”的方针，勇于参与市场的良性竞争，使“微流控芯片定制，微流控芯片加工设备，微流控仪器，表面修饰”品牌拥有良好口碑。我们坚持“服务至上，用户至上”的原则，使顶旭在生物制品中赢得了客户的信任，树立了良好的企业形象。特别说明：本信息的图片和资料仅供参考，欢迎联系我们索取准确的资料，谢谢！)