数显测厚规（千分款）测量匀胶厚度量程:0~10mm精度：0.001mm公差：≤±0.005mm显微镜观察头：铰链式三目观察头，30°倾斜，瞳距48～75mm目镜：超大视野目镜10X/22无xian远平场消色差物镜：4X/0.1，10X/0.25，20X/0.4，40X/0.65转化器：四孔转换器载物台：载物台面积300×268mm，移动范围250×250mm焦距调节：同轴粗微动调焦机构，行程24mm照明系统：6V20W卤素灯，亮度可调滤色镜蓝色、黄色、绿色、磨砂玻璃片匀胶机如何报价匀胶机的报价会受到多种因素的影响，包括品牌、型号、功能、材料、生产成本、市场竞争等。一般来说，价格较高的匀胶机通常具有更的功能和更高质量的材料，而价格较低的匀胶机则可能具有更简单的基本功能和较低的生产成本。此外，市场竞争也会影响匀胶机的价格，SU8光刻机优点，如果市场上有较多的供应商，价格可能会下降，反之亦然。因此，要想准确地报价，需要考虑以上因素，并根据实际情况进行综合评估。前烘1）将涂布好SU8光刻胶的硅片放置在热板上，进行预热烘烤，去除光刻胶中的挥发性有ji溶剂，时间和温度根据光刻胶厚度进行调整。（举例说明：目标胶厚度50um，设置温度65℃，烘烤15min，然后温度95度，烘烤15分钟）曝光1）将预热后的硅片放置在桌面光刻机托盘上。2）使用相应的掩模（掩膜）放置在硅片上进行曝光，曝光时间和强度根据SU-8光刻胶的类型和厚度进行调整。（举例说明：目标胶厚度50um，设置曝光能量25mw/cm2，时间12s）后烘将曝光后的硅片放置在热板上，SU8光刻机，进行后曝光烘烤，以确保光刻胶的交联反应完成。（举例说明：目标胶厚度50um，设置温度65℃，烘烤7min，然后温度95℃，烘烤3min）六、显影将硅片放入显影剂中，使未曝光部分的光刻胶溶解，形成模具的图案。（显影时间根据光刻胶厚度和显影剂浓度进行调整，SU8光刻机企业，此处显影时间20min）清洗将显影后的硅片用异bing醇溶剂进行清洗，去除多余的光刻胶。检查使用显微镜检查制备的SU-8模具，测试观察制备的微结构尺寸，确认图案的清晰度和质量。SU8光刻机-顶旭苏州微控技术(查看)由顶旭（苏州）微控技术有限公司提供。顶旭（苏州）微控技术有限公司为客户提供“微流控芯片定制，微流控芯片加工设备，微流控仪器，表面修饰”等业务，公司拥有“微流控芯片定制，微流控芯片加工设备，微流控仪器，表面修饰”等品牌，专注于生物制品等行业。，在苏州工业园区斜塘街道东富路32号雅景综合产业园A栋A217室的名声不错。欢迎来电垂询，联系人：周经理。)