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耗材硅片硅片没有特殊要求,单面抛光即可。制备SU8模具时在硅片抛光旋涂光刻胶。光刻掩膜板光刻掩膜版(又称光罩,英文为MaskReticle),简称掩膜版,是制备SU8模具光刻工艺所使用的图形母版,由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成微结构掩膜图形,通过曝光过程将微结构图形信息转移到SU8光刻胶涂层上,实现微结构的jing确复zhi。光刻掩膜版,一般可分为菲林掩膜版和玻璃掩膜版两种。桌面光刻机曝光光源:紫外LED光源波长:365nm;曝光面积:4英寸、6英寸可选;曝光方式:单面接触式定时曝光;曝光分辨率:2um;曝光强度:20~200mW/cm2可调;曝光不均匀性:≤5%;光源平行性:≤2°;光源寿命:≥20000h;电源输入:AC220V±10V,50HZ功率:250W重量:25kg外形尺寸:382(长)*371(宽)*435(高)工作环境:温度0℃-40℃,相对湿度<80%SU8模具制备流程1.备片从化学品存放区取出清洁的硅片(确保硅片表面无尘)。2.匀胶1)打开匀胶机,将硅片放置在匀胶机托盘上,打开真空开关,确保硅片固定在托盘上不动;2)将SU8光刻胶滴在硅片中间,显影机,根据光刻胶的厚度和制备要求设置匀胶机转速和时间。(举例说明:目标胶厚度50um,光刻胶型号:SU8-2075,1段500转8s,2段1800转30s)3.前烘1)将涂布好SU8光刻胶的硅片放置在热板上,进行预热烘烤,去除光刻胶中的挥发性有机溶ji,时间和温度根据光刻胶厚度进行调整。(举例说明:目标胶厚度50um,设置温度65℃,烘烤15min,然后温度95度,烘烤15分钟)4.曝光1)将预热后的硅片放置在桌面光刻机托盘上。2)使用相应的掩模(掩膜)放置在硅片上进行曝光,曝光时间和强度根据SU-8光刻胶的类型和厚度进行调整。(举例说明:目标胶厚度50um,设置曝光能量25mw/cm2,时间12s)微流控芯片加工设备:提供丰富多样的微流控芯片加工设备,涵盖SU8模具加工、PDMS芯片加工和玻璃芯片加工。可以帮助客户在自己的实验室内进行微流控芯片的快速制作,从而提高实验效率和灵活性。新疆维吾尔自治显影机-顶旭(推荐商家)由顶旭(苏州)微控技术有限公司提供。顶旭(苏州)微控技术有限公司在生物制品这一领域倾注了诸多的热忱和热情,顶旭一直以客户为中心、为客户创造价值的理念、以品质、服务来赢得市场,衷心希望能与社会各界合作,共创成功,共创辉煌。相关业务欢迎垂询,联系人:周经理。)
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