企业视频展播，请点击播放视频作者：北京科创鼎新真空技术有限公司高真空除气炉的特点科创鼎新公司生产的高真空除气炉，真空度可高达10-7Pa，可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。高真空除气炉特点：①极限真空度高；②控温精度高；③更高的升温速率；④更加智能化；⑤可真空去除产品空洞与气泡；⑥降低产品的氧化性；⑦提高工艺室的洁净度。真空除气储存柜设备用途本系统主要分为机械与电控两大部分。下面将详述各个部分构成。机械部分主要由以下两个单元构成：真空箱室单元、真空获得系统单元。真空除气储存柜设备主要应用于金属材料与非金属材料的高真空热处理。主要应用行业与工艺：半导体硅片除气；3D打印金属工件与合金材料的高真空热处理；X射线管高真空除气。真空除气储存柜的放置本机台不要放置在阳光直射或环境温度过高的地方，硅片除气装置公司，环境温度是5-35℃，环境湿度是35%~65%的相对湿度；且要保持放置处长期通风良好的位置。使用前注意电压是否正确，仅适用机台上所标示之电压，硅片除气装置哪家好，避免电过量，硅片除气装置品牌，而使电线走火．请勿置于潮湿之场所，请勿直接用水冲洗，北京硅片除气装置，以防漏电；请小心将物品放入机台，关上箱门，检查是否密闭。试验结速后，站侧面打开箱门，以免热气烫到面部。科创真空公司(图)-硅片除气装置哪家好-北京硅片除气装置由北京科创鼎新真空技术有限公司提供。北京科创鼎新真空技术有限公司是从事“氦检漏设备,氦质谱检漏仪,LNG抽真空设备”的企业，公司秉承“诚信经营，用心服务”的理念，为您提供更好的产品和服务。欢迎来电咨询！联系人：任经理。)